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韩国ESOL今年将展示第二代EUV原型设备

,据 TheElec 报道,韩国 EUV 设备制造商 ESOL 首席执行官 Kim Byung-gook 在接受采访时表示,今年将推出其第二代 EUV设备原型。

KimByung-gook 说,该公司去年获得了 350 亿韩元的资金,其中大部分将用于研发。到目前为止,ESOL 已经在其第一代产品线中推出了四款产品。其中,EUV 掩模检查设备和 EUV 薄膜透光率检测机已经产生收入。

ESOL 是芯片薄膜制造商 FST 的子公司,由曾在三星芯片业务部门工作的 Kim Byung-gook 于 2018 年创立。

IT之家了解到,ESOL 主要开发 EUV 解决方案,专注于为 EUV 或极紫外光刻应用开发各种解决方案和设备。

其第一代产品线的另外两款产品,即 EUV 相位反转掩模机和用于光刻胶显影的光刻机,也有望在今年产生收入。

ESOL 目前的四款产品中的主要产品是其薄膜透光率检测设备,在该领域它至少要面临两个竞争对手。

EUV 掩模检查设备称为 SREM 330,拥有扫描反射 EUV 显微镜,还有称为 FREM 或全场反射 EUV 显微镜的配套设备正在开发中。

同时,ESOL 公司 EUV 第二代阵容共有三款产品,其中一款将于今年推出。新设备将包括升级后的 EUV 掩模检查设备,可以扫描掩模的整个表面,而不是像第一代机器那样只扫描某些点。

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